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P-2金相試樣拋光機(jī)


作者: 濟(jì)南方圓試驗儀器

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發(fā)布時間:2018-11-09 15:41:50

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產(chǎn)品介紹
  產(chǎn)品概述:
  P-2金相試樣拋光機(jī)是采集多方面使用人員的意見和要求設(shè)計而成的,它具有結(jié)構(gòu)合理、傳動平穩(wěn)、噪音小、操作維修方便等優(yōu)點。該機(jī)可供雙人同時操作,能適合更多種材料的拋光要求,是試樣拋光的理想設(shè)備。
 
  技術(shù)規(guī)格參數(shù):
 
  電動機(jī)功率:180w
  拋盤直徑:φ200mm
  轉(zhuǎn)速:1400r/min或900r/min(定制)
  電源:380v、50Hz或220v、50Hz(定制)
  外型尺寸:900x500x915mm
  主要附件:拋光織物2片
 
  結(jié)構(gòu)特征:
 
  P-2金相試樣拋光機(jī)由焊接支架、工作臺面、拋光盤、拋光織物、拋光罩及開關(guān)盒等基本元件組成。工作臺面上安裝有兩個拋光盤,可供兩人同時操作,使用十分方便。 兩臺電動機(jī)都置于工作臺面下部,通過固定片與臺面連接。固定拋光盤用的錐套通過螺釘與電動機(jī)軸相連。拋光織物通過套圈緊固在拋光盤上,電動機(jī)的起??煞謩e由安裝在開關(guān)盒上的開光進(jìn)行控制,電機(jī)起動后,便可用手對試樣施加壓力在轉(zhuǎn)動的拋光盤上進(jìn)行拋光。拋光過程中加入的拋光液可通過固定在臺面上的塑料盤中的排水管排出。拋光罩及蓋可防止灰塵及其它雜物在機(jī)器不使用是落在拋光盤上而影響使用效果。
 
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  延伸閱讀:
 
  金相試樣的拋光
  拋光的目的是在于去除金相磨面由細(xì)磨所留下的細(xì)微磨痕及表面變形層,使磨面成為無劃痕的光滑鏡面。方法有機(jī)械拋光和電解拋光2種。
  1、機(jī)械拋光
  機(jī)械拋光是靠拋光微粉的磨削和滾壓作用,把金相試樣拋成光滑的鏡面。拋光時拋光微粉嵌入拋光織物的間隙內(nèi)。相當(dāng)于磨光砂紙的切削作用。
  機(jī)械拋光所使用的設(shè)備主要是拋光機(jī),拋光機(jī)由電動機(jī)帶動拋光盤構(gòu)成,結(jié)構(gòu)比較簡單。良好的拋光機(jī)不允許有能感覺到的徑向和軸向跳動,使用時拋光盤應(yīng)平穩(wěn),噪聲小。拋光時常用常用的磨料有氧化鉻、氧化鋁、氧化鐵和氧化鎂,將拋光磨料制成水懸浮液后使用?,F(xiàn)在比較常用的拋光磨料是金剛石研磨膏,它的特點是拋光效率高,拋光后表面質(zhì)量好。
  拋光織物對金相試樣的拋光具有重要的作用,依靠織物與磨面間的摩擦使磨面光亮。在拋光過程中,織物的纖維間隙能儲存和支承拋光粉,從而產(chǎn)生磨削的作用。一般常用的粗糙拋光織物用帆布,細(xì)拋和精拋織物用海軍呢、絲絨和絲綢等。拋光操作時,對試樣所施加的壓力要均衡,且應(yīng)先重后輕。在拋光初期,試樣上的磨痕方向應(yīng)與拋光盤轉(zhuǎn)動的方向垂直,以利較快的拋除磨痕。在拋光后期,需將試樣緩緩轉(zhuǎn)動,這樣有利于獲得光亮平整的磨面,同時能防止夾雜物及硬性的相產(chǎn)生曳尾現(xiàn)象。
  2、電解拋光
  電解拋光是靠電化學(xué)的作用使試樣達(dá)到拋光的目的,用不銹鋼作為陰極,被拋光的試樣作為陽極,容器中盛放電解液,當(dāng)接通電流后,試樣的金屬離子在溶液中發(fā)生溶解,在一定電解的條件下,試樣表面微凸部分的溶解比凹陷處來得快,從而逐漸使試樣表面有粗糙變平坦光亮。
  電解拋光采用電化學(xué)溶解作用,使試樣達(dá)到拋光的目的。電解拋光速度快,一般試樣經(jīng)過0號或00號砂紙磨光后即可進(jìn)行電解拋光。經(jīng)電解拋光的金相試樣能顯示材料的真實組織,尤其是硬度較低的金屬或單相合金,對于極易容易加工變形的合金,像奧氏體不銹鋼、高錳鋼等采用電解拋光更為合適。但不適用于偏析嚴(yán)重的金屬材料、鑄鐵以及夾雜物檢驗的試樣。
  電解拋光使用直流電源一般采用低壓蓄電池充電器即已足夠,電路中應(yīng)裝有電流表和電壓表。拋光時應(yīng)先接通電源,然后夾住試樣,將試樣放入電解液中,此時應(yīng)立即正確地調(diào)整至額定拋光電流,并給予電解液以充分的攪拌與冷卻或加熱。拋光完畢后,必須先將試樣自電解液內(nèi)取出,然后切斷電源,并將試樣迅速移入水中沖洗、吹干。

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